UV-NIL

UV-NIL ist ein Nano-Imprint-Verfahren, das auf Material-Dosierung am Ort basiert wird und dann gesteuerte nachfolgende UV-Härtung und Druck verwendet. Je nach Anwendungsanforderungen kann der Photolack nach oder vor der Ausrichtung dosiert werden.

Es ermöglicht, Muster zu reproduzieren, deren Größen so klein wie einige Dutzende oder Hunderte von Nanometern sein können.

UV-NIL Verfahren

Der Prägungsstempel mit 3D-Muster im Nanobereich ist an das Substrat ausgerichtet. Die Anforderung zur Genauigkeit unterscheidet sich je nach der Anwendung. Für einige einzelnen Anwendungen oder Anwendungen der ersten Ebene gibt es keine Notwendigkeit für Ausrichtung: eine grobe Vorausrichtung kann ausreichend sein.
Der Prägungsstempel ist dann in das flüssige Abdeckmittel gedrückt, um das gewünschte Muster zu ermitteln. Material ist durch leichte UV-Strahlung ausgehärtet.
Der Prägungsstempel wird dann reibungslos getrennt und – falls zutreffend – zur nächsten Prägungsstelle gezogen.

UV-NIL Process

 Ausrichtung Prägungsstempel-zu-Wafer ist entlang 5 Achsen ausgeführt: XYT und Parallelität

 Prägungsmaterial ist dosiert. Das Abdeckmittel ist entweder im Voraus aufgebraucht oder auf das Substrat nach einem bestimmten Muster dosiert, das Blasenfreie Ebene nach der Prägung gewährleistet. Das Dosierungsmuster wirkt auf die Fließgeschwindigkeit des Abdeckmittels in die Hohlräume des Prägungsstempels aus.

 Prägungsstempel ist ins Material gedrückt, um das Muster zu formen:
Selbst-Nivellierung des Prägungsstempels
Druck während der UV-Belichtung

 Prägungsstempel ist aufgehoben und auf den nächsten Ort verschoben

 Prägung wird am neuen Ort wiederholt

 Le matériau d’impression est déposé sur le substrat soit par avance par rotation, soit selon un motif spécifique qui garantit une couche sans bulle après impression. Le modèle de dispense influe sur la vitesse de pénétration de la résine dans les cavités du tampon.

 Le tampon est pressé sur la couche de matériau pour transférer le motif :
Un auto-alignement du tampon se produit
Les profils de température et pression sont contrôlés

 Le tampon est remonté puis déplacé sur le site suivant

 L’impression est répétée au nouvel endroit

NIL Verfahrenstechnik

Produktionslösungen von Nanostrukturen mit geringen Kosten sind in Entwicklung, die die Antriebskräfte der Halbleiter-, MOEMS- und Optoelektronik-Technologie von morgen sein können. Insbesondere wurden Nano-Imprint-Lithographie (NIL) und ihre Variationen als eine kostengünstige Alternative zur hochauflösenden Elektronenstrahl-Lithographie entwickelt, um unterhalb 20 nm Größen zu drucken.

Prägung basiert sich auf dem Prinzip des mechanischen Pressens von dünner Polymerfolie mit einem Prägestempel mit dem Nanomuster in einem thermo-mechanischen oder UV-Härtung Prozess. Das gemusterte Polymer kann als ein Endgerät, z.B. Linse für Bildsensoren, Mikro-Chip für Strömungstechnik, biomedizinisches Array, usw. handeln. Es kann auch als hochauflösende Maske für Folgeschritte des Prozesses verwendet werden.

Prägung ist eine direkte Technologie der Lithographie. Es gibt drei grundlegenden Prozess-Schritten:

  •  Den Prägungsstempel mit dem Substrat ausrichten, das vorbeschichtet mit Prägungsmaterial wurde
  •   Den Prägungsstempel in das Prägungsmaterial drücken, um das Muster zu übertragen,
    das auf der Oberfläche der Prägungsstempels geschrieben ist
  •  Den Prägungsstempel vom Prägungsmaterial trennen

Wir können drei Aufdrucken- oder Prägetechniken beschreiben: Heißprägung-Lithographie (HEL) mithilfe thermisches Plastikmaterials, UV-NIL mithilfe eines flüssigen Abdeckmittels, das dann mit UV-Licht nach dem Formen ausgehärtet wird, und Weiche Lithographie, die die Tinte, die zuvor auf einem weichen Stempel eingetragen ist, auf einem Substrat mithilfe eines Stanz-Verfahrens angewendet wird

NaPa Bibliothek der Verfahren

Die Bibliothek NaPa ist eine Sammlung von 27 Verfahren, Rezepten, Referenzen, die im Bereich der Nanomuster durchgeführt werden. Ihr Ziel ist es, den Forschern und Ingenieuren zu ermöglichen, von verschiedenen Prozessen je nach den spezifischen Herausforderungen einer neuen Anwendung auszuwählen.

 Über NaPANIL

NaPANIL ist ein NMP vorrangiges Großprojekt für europäischen Finanzierungsrahmen 7, das von 18 Partnern aus der Industrie, Hochschulen und privaten Instituten zusammengeführt wird, um anspruchsvolle Ziele zu erreichen.
 Klicken Sie hier, um mehr über das europäische Projekt von NaPANIL zu erfahren!

Dokumente von NIL

TITLE

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ABSTRACT

FROM

NaPa „Library of Processes“

January 2010

This FREE 152 pages book gives all directions needed to chose and apply an alternative nano-patterning technique: it is a must read for all!

NaPANIL

Access to NaPANIL’s website:
=> Please click on Direct Link to download it!

UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale

November 2008

Imprint specific process parameters like the residual layer thickness and the etch resistance of the UV polymers for the substrate etch process have to be optimized to introduce UV nanoimprint lithography (UV NIL) as a high-resolution, low-cost patterning technique…

IISB
Access to IISB’s Library:

=> Please click on Begin Search, type „schmitt“ as person and „nanoimprint“ as keyword.

=> Then you will access to all latest papers!

UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale

September 2008

It’s a poster

 IISB

UV nanoimprinting lithography using nanostructured quartz molds with antisticking functionalization

February 2008

In this paper, we report the results obtained by the application of the SET FC150 equipment for UV-NIL…

 CNR-IMM

 

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