Nanolithographie UV

 

La Lithographie par Nano-Impression (NIL) permet de dupliquer des motifs dont les dimensions peuvent être de quelques dizaines ou centaines de nanomètres. Il existe deux principaux procédés :

La Lithographie par Nano-Impression UV (UV-NIL) est une méthode de nano-impression basée sur une dispense de résine en local puis une polymérisation par lumière ultraviolette et une force contrôlées. En fonction des besoins des applications, la photorésine peut être dispensée avant ou après l’alignement.