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NPS300
Orientée R&D avancée et ligne pilote, la NPS300 est un Stepper haute précision et haute force conçu pour la nanoimpression.
Optimisée pour la réplication de nanostructures avec une précision de ± 0,5 μm, la NPS300 (NanoPatterning Stepper) est le tout premier équipement capable de combiner, sur la même plateforme, lithographie à chaud et nanolithographie UV.
La NPS300 est capable d’imprimer des géométries inférieures à 20 nm avec une précision de superposition de 250 nm.
Son architecture flexible offre une excellente reproductibilité de procédé et une capacité unique à structurer de grandes surfaces, en mode Step & Repeat sur des wafers allant jusqu’à 300 mm.
Elle permet de fabriquer à faible coût de grands tampons présentant des motifs répétés.
Avantages
- Equipement de Lithographie par Nanoimpression combinant “Hot Embossing” et “UV-NIL” sur wafer jusqu’à 300 mm avec mode “Step & Repeat”
- Résolution d’impression meilleure que 20 nm et précision de superposition de 250 nm adressant plusieurs applications : Moyens de stockage structurés, optique, bio, etc…
- Possibilité d’ajouter un gaz inerte pour une impression plus rapide
- Haute précision et petit volume de dispense de résine
- Chargement automatique de tampon pour une meilleure flexibilité et des tailles de tampons de 50 / 65 mm jusqu’à 100 mm
- Chargement / Déchargement de wafer Manuel ou Automatique
- Technologie par coussin d’air et structure granit assurant stabilité et fiabilité à long-terme
Procédés
La Lithographie par Impression « Step & Stamp » par emboutissage à chaud ou par UV « UV NIL » est une méthode innovante qui a fait ses preuves à VTT, Centre de Recherche Technique de Finlande.
- Hot Embossing Lithography: Cette méthode consiste à transférer la structure du tampon dans un matériau thermoplastique par emboutissage en contrôlant chaleur et force
- UV-NIL: La méthode « Déplacement et Polymérisation » (« Step & Cure ») utilise une dispense de résine à imprimer in-situ et une polymérisation par UV. Cette technologie de pointe est une solution très prometteuse pour remplacer les systèmes standards de lithographie par UV quand des résolutions en-dessous de 20 nm sont nécessaires.
Applications
- Composants photoniques
- Matrices et réseaux micro-optiques de haute précision
- Intégration CMOS-MEMS
- Afficheurs Haute Résolution OLED
- Disques Durs Haute Densité (HDD) pour stockage mobile
- Autres techniques émergentes
Technologie NIL
Les solutions de production de nanostructures à faible coût sont en développement et devraient être les éléments moteurs des technologies semi-conducteur, MOEMS et optoélectronique de demain. En particulier, la Lithographie par Nano-Impression (NIL) et ses variantes ont été développées comme une alternative économique à la lithographie haute-résolution par faisceau d’électrons pour l’impression de géométries inférieures à 20 nm.
L’impression est basée sur le principe d’une pression mécanique sur un film polymère à l’aide d’un tampon doté des nanomotifs, à l’aide d’un procédé thermo-mécanique ou de polymérisation UV. Le polymère imprimé peut soit être le produit final, comme par exemple une lentille pour capteur d’image, une puce micro-fluidique, une matrice biomédicale etc… soit être utilisé comme masque haute résolution pour de nouvelles étapes de procédés.
Trois techniques d’impression ou emboutissage existent : Lithographie par Emboutissage à Chaud (HEL) qui utilise un matériau thermoplastique, Lithographie UV (UV-NIL), qui utilise un résine liquide qui est ensuite polymérisée par lumière ultraviolette après moulage et la Lithographie Douce (Soft Lithography) qui transfère de l’encre, préalablement appliquée sur un tampon souple, sur un substrat.
Technical data
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