大气等离子体表面处理

 

Ontos CLEAN -大气等离子体表面处理

ONTOS CLEAN 是一种半自动化的表面处理系统。它使用具有独特设计的专利大气等离子体,可以在不进行任何表面改变的情况下氧化或还原化学物质。

ONTOS CLEAN 可完成清洁,消除有机污染,激活表面,并去除氧化等功能。

这是一种应用了气体钝化的创新工艺,延迟了金属表面的再氧化。

主要优点

  • 从金属和半导体表面去除氧化物
  • 处理后的表面可抑制再氧化
  • 去除残留的有机污染层
  • 快速,无毒,干燥的大气环境工艺过程
  • 低能量表面化学- cmos安全
  • 理想的直接键合表面处理手段
  • 紧凑的结构
  • 兼容自动化集成

技术参数

点击这里索取 Ontos CLEAN 技术数据。

….

Ontos IS - 可集成到第三方设备的大气等离子体模块

ONTOS 等离子模块可集成到第三方设备中。

三种规格尺寸可用:10毫米,25毫米和40毫米。

ONTOS IS 系统可集成在 FC300 倒装芯片键合机上使用

 

主要优点

  • 顺流式自由基化学
  • cmos和探测器安全
  • 快速处理,连续吞吐能力
  • 无毒,干燥的工艺过程- OSHA和EPA友好

主要应用

  • 键合表面处理
  • 光刻胶残留物去除
  • 掩模版清洗
  • 半导体表面的氧化物去除
  • 在键合工艺之前去除有机污染
  • 电镀前表面处理

Technical data

点击这里索取Ontos IS技术数据。