紫外纳米压印技术

紫外纳米压印技术是一种纳米压印方法,它基于现场材料配料,然后使用受控制的后续性紫外固化和按压。根据应用的要求,可以在校准之后或之前进行光致抗蚀剂配料。

它允许对尺寸小至几十或几百纳米的图案进行复制。

UV-NIL工艺

将带有3D纳米级图案的印模对准基板。精度要求随应用情况不同而变化。对于某些单体或一级应用,不需要对准:粗略的预对准就足够了。
然后,将印模压入液体抗蚀剂以确定所需的图案。使用紫外光辐射来对材料进行固化。
然后,将印模平缓地分离,并且(如果适用的话)移至下一个印刻位置。

UV-NIL工艺

 印模与晶圆沿5个轴进行对准:XYT以及平行度

 将印刻材料进行配料。根据确保印刻后无泡层的具体模式,将抗蚀剂提前旋转或是配料到基板上。配料模式会影响抗蚀剂进入印模腔的流动速度。

 印模被压入材料层以模制图案:
印模进行自调平
在紫外光照射期间进行按压

 提起印模并将其移至下一位置

 在新位置重新进行印刻

 

纳米压印光刻技术

纳米结构的低成本生产方案正在开发中,这可能是半导体、MOEMS与光电子技术未来发展的驱动力。特别是,纳米压印光刻技术(NIL)及其变体已发展成为一种具有成本效益的技术,它可以替代高分辨率电子束光刻技术来印刷小于20纳米的几何形状。

印刻的原理是采用热机械或是紫外线固化工艺,使用带有纳米图案的印模对聚合物薄膜进行机械按压。带有图案的聚合物可以作为最终设备,例如成像传感器的透镜、微流控芯片、生物医学阵列等。它也可以作为一种高分辨率掩模应用于随后的工艺步骤中。

印刻是一种简单的光刻技术。它有三个基本的工艺步骤:

  •   将印模与已预涂印刻材料的基板进行对准
  •   将印模压入印刻材料以转印印模表面上的图案
  •   将印模从印刻材料中分离出来

我们可以描述三种印刻或压印技术:热压印光刻技术 (HEL),其使用热塑性材料;紫外纳米压印技术(UV-NIL),其使用液体抗蚀剂并在成型后用紫外光进行固化;以及软光刻技术,其使用冲压方法将预先在软印模上处理好的油墨转印到基板上。

纳米图案成形工艺库

Die Bibliothek NaPa a

纳米图案库包含了在纳米图案成形领域所使用的27种工艺、方法和参考资料。它旨在使研究人员和工程师能够根据新应用的特别要求来选择不同的工艺。

ist eine Sammlung von 27 Verfahren, Rezepten, Referenzen, die im Bereich der Nanomuster durchgeführt werden. Ihr Ziel ist es, den Forschern und Ingenieuren zu ermöglichen, von verschiedenen Prozessen je nach den spezifischen Herausforderungen einer neuen Anwendung auszuwählen.

 Über NaPANIL

NaPANIL ist ein NMP vorrangiges Großprojekt für europäischen Finanzierungsrahmen 7, das von 18 Partnern aus der Industrie, Hochschulen und privaten Instituten zusammengeführt wird, um anspruchsvolle Ziele zu erreichen.
 Klicken Sie hier, um mehr über das europäische Projekt von NaPANIL zu erfahren!

NIL论文

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FROM

NaPa “Library of Processes”

January 2010

This FREE 152 pages book gives all directions needed to chose and apply an alternative nano-patterning technique: it is a must read for all!

NaPANIL

Access to NaPANIL’s website:
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UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale

November 2008

Imprint specific process parameters like the residual layer thickness and the etch resistance of the UV polymers for the substrate etch process have to be optimized to introduce UV nanoimprint lithography (UV NIL) as a high-resolution, low-cost patterning technique…

IISB
Access to IISB’s Library:

=> Please click on Begin Search, type “schmitt” as person and “nanoimprint” as keyword.

=> Then you will access to all latest papers!

UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale

September 2008

It’s a poster

 IISB

UV nanoimprinting lithography using nanostructured quartz molds with antisticking functionalization

February 2008

In this paper, we report the results obtained by the application of the SET FC150 equipment for UV-NIL…

 CNR-IMM

 

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